Elimination des dépôts par jet d’eau Haute Pression

Nettoyage performant, sûr et ciblé des chambres de traitement des wafers par

Jet d’eau Ultra-haute pression

Nos solutions de nettoyage ultra-haute pression éliminent tous types de dépôts des chambres de traitement de wafer semiconducteurs (wafer process chambers)

Notre maitrise de la technologie Haute-Pression, des procédés de décapage et de nettoyage nous permettent de trouver le point de rupture des dépôts afin de les éliminer sans affecter la pièce.

Quelques applications emblématiques : éliminer le dépôt Tungstène d’un shield en aluminium, débarrasser un clamp ring céramique d’un dépôt TiNAl, supprimer le cuivre d’un collimateur…

Le nettoyage par jet d’eau haute pression permet aux sociétés effectuant le nettoyage haute précision des chambres de traitement des wafers de se débarrasser des bains chimiques en apportant les bénéfices suivants :

Pas d’affectation de la pièce lors du nettoyage, ce qui augmente sa durée de vie

Temps de nettoyage réduit

Collecte et valorisation des déchets (dépôts de haute valeur)

Suppression des risques chimiques et des tâches manuelles pénibles & répétitives

Préservation des surfaces

Les dépôts sont éliminés par Liquid Force™, sans endommager le matériau de base.

Solution Ergonomiqu

Machine robotisée et insonorisée, conçue pour le nettoyage des dépôts des semiconducteurs.

Procédé écologique

Aucun produit chimique n’est utilisé; aucun polluant n’est relâché lors du process.

Plus rapide et moins coûteuse

Le décapage au jet d’eau est jusqu’à 10 fois plus rapide que les process chimiques, ce qui offre par conséquent un gain de temps et d’argent.

Process Monitoring avancé

Notre suivi des paramètres process garantit la performance et la qualité du nettoyage.

Nous offrons des solutions de décapage standard ou des systèmes sur mesure selon ce que requièrent vos productions.

25 ans d’expérience en décapage et nettoyage par jet d’eau haute pression

En 25 ans, Aquarese a développé des solutions de décapage et de nettoyage adaptées aux contraintes de différentes industries (fonderies, maintenance aéronautique, semiconducteurs, etc.)

Nos solutions sont conçues en pensant à l’efficacité du process sur le long-terme.

Le nettoyage jet d’eau vs. le nettoyage chimique

 Jet d’eau UHPChimique
Élimine plusieurs types de dépôt (TiNAl, Cu, W)OUINON
Préserve la pièce (pas d’usure du matériau de base)OUI*NON
Préserve la rugosité de la pièce (pas d’affectation du Ra)OUI*NON
Collecte et valorisation des déchets (dépôts de haute valeur)OUINON
Suivi continu des paramètres processOUINON
Flexibilité – traitement pièce à pièce (pas d’obligation de traiter les pièces par batch)OUINON
Gain de temps de cycleOUINON
Génère des déchets toxiques ou polluantNONOUI
Capable d’éliminer un dépôt de même composition que la pièceOUINON
* une légère affectation est possible

Notre équipe est la vôtre

Nos experts en décapage au jet d’eau savent parfaitement ce que c’est que de décaper au jet d’eau au quotidien. Nous décapons des pièces pour nos clients de l’aérospatiale et du nucléaire chaque semaine dans nos centres de production avancée. Notre savoir-faire process et notre fonctionnement au quotidien nous permettent de développer des partenariats avec nos clients d’une façon unique en son genre. Notre accompagnement tout au long de la durée de vie de nos machines vous garantit de pouvoir compter sur nous pour les années à venir.

RENCONTREZ NOTRE EQUIPE

Aquarese est fière d’être une société du Groupe Shape Technologies, en partenariat avec les leaders mondiaux de la technologie UHP pour concevoir et fournir les solutions et process de fabrication du futur.